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Si2發(fā)布具有電源擴(kuò)展的ECSM 2.1版設(shè)計庫標(biāo)準(zhǔn)

——Open Modeling Coalition的工作進(jìn)展迅速

2006/10/16 16:21:44   電源在線網(wǎng)
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  Silicon Integration Initiative (Si2)組織近日對外發(fā)布了有效電流源模型(ECSM)2.1版標(biāo)準(zhǔn)。該新版標(biāo)準(zhǔn)擴(kuò)充了對電源和動態(tài)電源網(wǎng)格的規(guī)范,它能實現(xiàn)從單元特征化向設(shè)計工具傳遞電源和動態(tài)電源網(wǎng)格信息以提高納米級設(shè)計中電源預(yù)測的精確度。負(fù)責(zé)起草該版標(biāo)準(zhǔn)的Open Modeling Coalition (OMC)工作組由業(yè)界領(lǐng)先廠商組成,包括:Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司,飛思卡爾半導(dǎo)體,英特爾,LSI Logic, Silicon Navigator, Sun Microsystems 和Virage Logic等公司。

  “OMC為這個ECSM新版標(biāo)準(zhǔn)做出了杰出的貢獻(xiàn),” Si2總裁兼首席執(zhí)行官Steve Schulz說,“該工作組自2005年9月成立以來,已經(jīng)推出兩版標(biāo)準(zhǔn),并在全面的庫建模系統(tǒng)開發(fā)工作中進(jìn)展迅速,這將會改變設(shè)計庫的開發(fā)方式。通過EDA、IP和IDM業(yè)界領(lǐng)先廠商的通力合作,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更低的工藝節(jié)點邁進(jìn)的道路將更為平坦。”

  對于90納米及以下工藝來說,動態(tài)電源和電源網(wǎng)格分析變得越來越重要。在動態(tài)電源網(wǎng)格分析時會分析自發(fā)的切換動作,ECSM電源擴(kuò)展信息將能夠為分析工具提供動態(tài)電流切換信息以實現(xiàn)更為精確的動態(tài)功耗計算。ECSM電源擴(kuò)展信息能夠捕捉類似SPICE的單元特征化細(xì)節(jié),這些細(xì)節(jié)能夠反映出在單元切換時的功率消耗情況。

  “在Si2支持下完成的ECSM2.1版本標(biāo)準(zhǔn)化工作充分證明了行業(yè)協(xié)作的重要性,” Cadence公司產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟高級副總裁Jan Willis說,“通過協(xié)作,行業(yè)領(lǐng)先廠商們能夠迅速地調(diào)整ECSM以滿足他們的實際需要。ECSM作為一種開放格式能夠支持更為精確的設(shè)計庫,這也使我們的客戶能夠繼續(xù)從中受益。”

  Si2 ECSM2.1版本中的電源擴(kuò)展與現(xiàn)有的ECSM和Liberty格式兼容,以便于工具提取和精確地解析Liberty模型,此外,它對數(shù)據(jù)量的控制也更為有效。ECSM電源擴(kuò)展格式為動態(tài)單元行為提供了更為有效的存儲媒介,并適當(dāng)刪減了波形以更好地滿足用戶對精確度的需要。其中的精確度調(diào)控功能使用戶們能夠在計算時間、分析精度和模型大小之間進(jìn)行權(quán)衡。

  “ECSM 2.1規(guī)范是OMC的重要成果,” Magma公司設(shè)計實現(xiàn)事業(yè)組總經(jīng)理Kam Kittrell說,“工藝的快速進(jìn)步帶來了很多建模問題。我們很高興地看到,通過行業(yè)協(xié)作ECSM擴(kuò)展為一種開放的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)格式,并為下一代半導(dǎo)體技術(shù)服務(wù)。”

  “對于當(dāng)前的移動設(shè)備市場,功耗和電池壽命是影響產(chǎn)品競爭力的重要方面。英特爾公司作為PC、筆記本電腦和服務(wù)器市場的主要芯片供應(yīng)商,一直致力于為我們的設(shè)計人員提供最為精確的動態(tài)和靜態(tài)功耗模型,”英特爾公司在ECSM WG的代表Robert Kezer介紹說。

  繼2.1版本之后,OMC計劃在下一步將ECSM擴(kuò)展到信號完整性和統(tǒng)計分析領(lǐng)域。OMC專家們將于7月份在DAC Si2 Booth #1001就ECSM擴(kuò)展計劃作報告。

  可通過以下鏈接下載新的ECSM 2.1規(guī)范http://openeda.si2.org/projects/omcdistrib/
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文章標(biāo)簽: Cadence/ECSM
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