日前,“2013電源管理技術(shù)研討會”成功舉辦,200多位技術(shù)研發(fā)工程師積極參與,同行業(yè)領(lǐng) 袖和技術(shù)專家圍繞綠色電源系統(tǒng)解決方案、電源設(shè)計軟件工具、電源電路保護、平板、手機散熱以及電源測試展開互動討論,共同探討技術(shù)發(fā)展和產(chǎn)業(yè)前景。
會上,飛兆半導(dǎo)體技術(shù)行銷部高級工程師閔江威先生發(fā)表精彩演講,詳細(xì)介紹了飛兆半導(dǎo)體綠色電源系統(tǒng)解決方案,包括分立式解決方案--高性能IGBT、超級結(jié)MOSFET和新型碳化硅晶體管解決方案,與會觀眾收獲頗多。
在節(jié)能和綠色的大趨勢下、在各機構(gòu)和政府制定的規(guī)范推動下,電源和電子設(shè)備必須遵守強制性能效規(guī)范,以及智能便攜設(shè)備小型化多功能的發(fā)展趨勢,要求電源 與電源管理必須提高電源效率、降低待機功耗、改善功率因數(shù)、高功率密度、高可靠性、高集成度、小尺寸、智能化、安全和低成本。電源制造商、半導(dǎo)體制造商均 積極開發(fā)能夠提高效率的新型解決方案。
飛兆半導(dǎo)體MOSFET技術(shù)開發(fā)工程師Jaegil Lee先生表示,由于增加了便攜式設(shè)備的使用,在目前的電力系統(tǒng)中,對于電信網(wǎng)絡(luò)基礎(chǔ)建設(shè)(3G / LTE & LTE-A通訊網(wǎng)絡(luò))和云系統(tǒng)的各種需求正成為核心議題。因此,針對電信基礎(chǔ)建設(shè)和計算包括云系統(tǒng),對于能夠滿足來自電源管理應(yīng)用各種要求的半導(dǎo)體產(chǎn)品和 電子產(chǎn)品需求也已增加。尤其在大中華區(qū),華為(Huawei)、中興(ZTE)和聯(lián)想(Lenovo)專注于電信和計算電源業(yè)務(wù)。
為了滿足此市場中對更高功率等級、效率、功率密度等要求,半導(dǎo)體供應(yīng)商正致力于為市場提供采用小型化封裝的高開關(guān)速度、大電流、低RDS(ON)的SJ/MV MOS, IGBT器件。
而且,來自目前材料(例如,硅)的上述既有器件的局限性可以通過下一代寬帶隙半導(dǎo)體產(chǎn)品,比如SiC和GaN開關(guān)來克服,它們將會在不久的將來應(yīng)用于這個市場中。
以高性能IGBT、MOSFET解決功率管理的挑戰(zhàn)
功率管理的發(fā)展重心將逐漸集中在能效方面。飛兆半導(dǎo)體的高能效解決方案在應(yīng)對當(dāng)前功率管理挑戰(zhàn)方面扮演著關(guān)鍵的角色。飛兆半導(dǎo)體推出的場截止IGBT具 備高電流能力、低傳導(dǎo)損耗和低開關(guān)損耗、易于并聯(lián)運行的正溫度系數(shù)、最大結(jié)溫: Tj=175℃ 、良好的一致性、更大的SOA(安全工作區(qū))等優(yōu)勢,能夠在高頻應(yīng)用中滿足低能量損耗的要求。
飛兆半導(dǎo)體MOSFET技術(shù)開發(fā)工程師 Jaegil Lee先生表示,我們相信飛兆的600V平面型場截止 (Field Stop Planar) IGBT是能夠用來滿足客戶需求的最好產(chǎn)品之一。對于高頻應(yīng)用中的低能量損耗要求,飛兆的600 V平面型場截止(Field Stop Planar) IGBT為客戶提供了解決方案。為繼續(xù)滿足客戶對于高功率密度的期望,并兼容各種市場應(yīng)用,飛兆在2012年推出了650 V溝槽型場截止(Field Stop Trench) IGBT。其目標(biāo)應(yīng)用為工作在中頻開關(guān)頻率上的不間斷電源(uninterruptable power supply,UPS)和電焊機應(yīng)用。650 V溝槽型場截止(Field Stop Trench) IGBT擁有非常嚴(yán)格的關(guān)鍵參數(shù)控制,并通過加固設(shè)計來來保證短路特性來滿足目標(biāo)應(yīng)用。
飛兆650 V溝槽型場截止(Field Stop Trench) IGBT會繼續(xù)在高頻應(yīng)用中降低能量損耗和降低EMI等級等方面發(fā)展。
超級結(jié)MOSFET
飛兆半導(dǎo)體充分利用其高端工藝和前沿封裝技術(shù),不斷推出高性能半導(dǎo)體產(chǎn)品,積極應(yīng)對功率管理挑戰(zhàn),以優(yōu)化電源、便攜式、照明、電機、計算以及消費應(yīng)用產(chǎn) 品的能效。飛兆推出的超級結(jié)MOSFET,采用先進制造工藝降低EPI電阻,解決了HV MOSFET中RDS(ON)的主要影響因素。超級結(jié)MOSFET技術(shù)能夠有效隔離導(dǎo)電區(qū)域與電壓阻斷區(qū)域,在導(dǎo)通狀態(tài)下,重?fù)诫s外延區(qū)域可確保導(dǎo)通電阻 足夠低;在關(guān)斷狀態(tài)下,夾斷導(dǎo)電區(qū)域,充當(dāng)電壓持續(xù)層,可謂是突破硅限制的超級MOSFET。超級結(jié)MOSFET優(yōu)勢明顯,在較低的輸出電容(Eoss) 可獲得輕載條件下較高的效率;較高的體二極管耐用性和較小的反向恢復(fù)電荷(Qrr)能為諧振轉(zhuǎn)換器提供更可靠的系統(tǒng)。
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