前言

    脈沖電鍍是通過槽外控制方法改善鍍層質(zhì)量的一種強(qiáng)有力的手段，相比于普通的直流電鍍鍍層，其具有更優(yōu)異的性能(如耐蝕、耐磨、純度高、導(dǎo)電、焊接及抗變色性能好等)，且可大幅節(jié)約稀貴金屬，因此，在功能性電鍍中得到較好的應(yīng)用。目前脈沖電鍍中所使用的多為方波脈沖。

    脈沖電鍍電源能產(chǎn)生方波脈沖電流，它在用于電鍍時(shí)并不能得到理想的正方波，而是一種近似于梯形的波形，這會(huì)影響脈沖電鍍瞬時(shí)高電位有利作用的充分發(fā)揮。脈沖頻率對(duì)鍍層結(jié)晶也會(huì)產(chǎn)生較大影響，頻率過低，效果不明顯;頻率過高，波形畸變程度大，甚至脈沖電流會(huì)變成直流電流。脈沖電鍍電源的正確使用(如設(shè)備安裝、設(shè)備選型、參數(shù)選擇等)對(duì)脈沖波形、設(shè)備可靠性、脈沖電鍍優(yōu)越性的正常發(fā)揮等均產(chǎn)生重要影響。

    1 脈沖電鍍的基本原理

    常見的脈沖電流波形有方波、三角波、鋸齒波、階梯波等。根據(jù)確定脈沖波形的幾點(diǎn)原則(如實(shí)鍍效果、便于分析和研究、易于獲得和調(diào)控、便于推廣等)，方波是最符合要求的脈沖波形。典型的方波脈沖波形，如圖1所示。由圖1可知:脈沖電流實(shí)質(zhì)上是一種通斷的直流電。

    1.1 脈沖電鍍的基本參數(shù)

    傳統(tǒng)的直流電鍍只有電流或電壓可供調(diào)節(jié)，而脈沖電鍍有脈沖電流密度(或峰值電流密度)Jp、脈沖導(dǎo)通時(shí)間ton和脈沖關(guān)斷時(shí)間toff3個(gè)獨(dú)立的參數(shù)。由ton和toff可以引出脈沖占空比γ。

    (1)脈沖占空比γ計(jì)算公式

    脈沖占空比γ指脈沖導(dǎo)通時(shí)間ton占整個(gè)脈沖周期(ton+toff)的百分比，可用下式表示:

    (2)平均電流密度Jm、峰值電流密度Jp、脈沖占空比γ關(guān)系式

    在一個(gè)脈沖周期內(nèi)，由于電流只在部分時(shí)間(ton)導(dǎo)通，而其他時(shí)間(toff)為零，因此，脈沖電鍍的電流密度有平均電流密度和峰值電流密度之分。平均電流密度Jm等于峰值電流密度Jp與脈沖占空比γ的乘積，可用下式表示:

    由式(2)可以看出:Jm一定時(shí)，Jp會(huì)根據(jù)γ的不同而改變。

    1.2 脈沖電鍍過程

    (1)在脈沖導(dǎo)通期ton內(nèi)

    峰值電流密度相當(dāng)于普通直流電流密度(或平均電流密度)的幾倍甚至十幾倍。高的電流密度所導(dǎo)致的高過電位使陰極表面吸附的原子的總數(shù)高于直流電沉積的，其結(jié)果使晶核的形成速率遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于原有晶體的生長速率，從而形成具有較細(xì)晶粒結(jié)構(gòu)的沉積層。

    (2)在脈沖關(guān)斷期toff內(nèi)高的過電位使陰極附近的金屬離子以極快的速度被消耗，當(dāng)陰極界面金屬離子的質(zhì)量濃度為零或很低時(shí)，電沉積過程進(jìn)入關(guān)斷期。在關(guān)斷期內(nèi)，金屬離子向陰極附近傳遞從而使擴(kuò)散層中金屬離子的質(zhì)量濃度得以回升，并有利于在下一個(gè)脈沖周期使用較高的峰值電流密度。

    脈沖電鍍過程中，當(dāng)電流導(dǎo)通時(shí)，電化學(xué)極化增大，陰極區(qū)附近金屬離子被充分沉積;當(dāng)電流關(guān)斷時(shí)，陰極區(qū)附近放電離子又恢復(fù)到初始的質(zhì)量濃度，濃差極化消除，并伴有對(duì)沉積層有利的重結(jié)晶、吸脫附等現(xiàn)象。這樣的過程周期性的貫穿于整個(gè)電鍍過程的始末，其中所包含的機(jī)理構(gòu)成了脈沖電鍍的最基本原理。

    2 脈沖電鍍的優(yōu)越性及適用性

    2.1 鍍層結(jié)晶細(xì)致

    在脈沖導(dǎo)通期內(nèi)，由于使用較高的電流密度，使晶核的形成速率遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于原有晶體的生長速率，因此可形成結(jié)晶細(xì)致的鍍層。鍍層結(jié)晶細(xì)致則密度大、硬度高、孔隙率低，即:大大提高鍍層的耐蝕、耐磨、焊接、韌性、導(dǎo)電率、抗變色性，降低鍍層的粗糙度，這對(duì)于功能性電鍍來說尤其重要。

    所以，脈沖電鍍主要適用于功能性電鍍領(lǐng)域，改善鍍層的各項(xiàng)功能性指標(biāo)，從而滿足鍍件在不同情況下較高的使用要求。

    2.2 改善鍍液分散能力

    在脈沖關(guān)斷期內(nèi)，陰極區(qū)域溶液中導(dǎo)電離子的質(zhì)量濃度會(huì)得到不同程度的回升，溶液電阻率減小，則分散能力改善。因此，脈沖電鍍所得的鍍層均勻性好。這不僅有利于功能性電鍍，對(duì)于某些高要求的裝飾性電鍍也非常重要(如大尺寸工件的裝飾性鍍金、銀等)，脈沖電鍍分散能力好的特點(diǎn)可使工件表面鍍層的顏色均勻一致、質(zhì)量穩(wěn)定。

    所以，在某些高要求的裝飾性電鍍中，采用脈沖電鍍是有積極意義的。但對(duì)于常規(guī)的防護(hù)-裝飾性電鍍，如自行車、緊固件電鍍等，則沒有必要采用脈沖電鍍。

    2.3 提高鍍層純度

    在脈沖關(guān)斷期內(nèi)，會(huì)產(chǎn)生一些對(duì)沉積層有利的吸脫附現(xiàn)象。例如:脈沖導(dǎo)通期內(nèi)吸附于陰極表面的不溶性雜質(zhì)(含光亮劑)在關(guān)斷期內(nèi)脫附返回溶液中，從而可得到純度高的鍍層。鍍層純度高，可使鍍層的某些功能性大大提高，如脈沖鍍銀可提高鍍層的焊接、導(dǎo)電、自潤滑、抗變色等性能，這在軍工、電子、航空航天等領(lǐng)域的鍍銀生產(chǎn)中是難能可貴的。

    2.4 鍍層沉積速率加快

    脈沖關(guān)斷期內(nèi)金屬離子的質(zhì)量濃度的回升降低了濃差極化，有利于提高陰極電流效率和陰極電流密度，從而提高鍍速。脈沖電鍍的這種優(yōu)越性，可用于某些對(duì)鍍層沉積速率要求較快的電鍍生產(chǎn)(如電子線材的卷至卷連續(xù)電鍍)。但對(duì)于普通的電鍍生產(chǎn)，若選擇脈沖電鍍的目的單純是為了提高生產(chǎn)效率，則似乎有些不太合適。

    2.5 消除或減輕鍍層氫脆

    脈沖導(dǎo)通期內(nèi)陰極表面吸附的氫在關(guān)斷期內(nèi)從陰極表面脫附，鍍層氫脆消除或減輕，物理性能得到改善。鍍層氫脆小，工件的抗斷裂強(qiáng)度提高，這對(duì)機(jī)械強(qiáng)度要求較高的產(chǎn)品有著重要的意義。

    3 周期換向脈沖電鍍

    3.1 基本原理

    周期換向脈沖電鍍又稱雙向脈沖電鍍。典型的周期換向脈沖電流波形，如圖2所示。在正向脈沖之后引入反向脈沖，正向脈沖比反向脈沖持續(xù)時(shí)間長，反向脈沖幅度通常大于正向脈沖的。大幅度、短時(shí)間的反向脈沖所引起的高度不均勻陽極電流密度分布可使鍍層凸處被強(qiáng)烈溶解而整平。

    周期換向脈沖電鍍與單脈沖電鍍相比，具有以下優(yōu)越性:

    (1)反向脈沖可有效改善鍍層的厚度分布，鍍層厚度更均勻，整平性更好;

    (2)反向脈沖的陽極溶解使陰極表面金屬離子的質(zhì)量濃度迅速回升，這有利于下一個(gè)陰極周期使用高的脈沖電流密度，又使得晶核的形成速率大于生長速率，鍍層致密度進(jìn)一步提高;

    (3)反向脈沖的陽極剝離使鍍層中有機(jī)雜質(zhì)(含光亮劑)的夾附大大減少，因而鍍層純度更高，抗變色能力更強(qiáng)，這一點(diǎn)在氰化鍍銀中尤為突出;

    (4)反向脈沖使鍍層中夾雜的氫發(fā)生氧化，從而可消除氫脆或減小內(nèi)應(yīng)力;

    (5)周期性的反向脈沖使鍍件表面一直處于活化狀態(tài)，因此可得到結(jié)合力好的鍍層;

    (6)反向脈沖有利于減薄擴(kuò)散層的實(shí)際厚度，提高陰極電流效率，因此合適的脈沖參數(shù)會(huì)使鍍層的沉積速率進(jìn)一步加快。

    3.2 電流波形

    周期換向脈沖電流的波形一般有以下幾種:

    3.2.1 有關(guān)斷時(shí)間的單個(gè)脈沖換向

    一個(gè)正向脈沖之后緊接著一個(gè)反向脈沖，其波形，如圖3所示。

    這種波形兼有脈沖和換向的優(yōu)點(diǎn)，但缺點(diǎn)是調(diào)節(jié)參數(shù)時(shí)，正、反向脈沖的導(dǎo)通、關(guān)斷時(shí)間選擇與正、反向脈沖的持續(xù)時(shí)間選擇發(fā)生沖突。因此，這種形式若作為槽外控制改善鍍層質(zhì)量的手段，其功能極不完善，在實(shí)際生產(chǎn)中極少應(yīng)用。

    3.2.2 無關(guān)斷時(shí)間的單個(gè)脈沖換向

    一個(gè)無關(guān)斷時(shí)間的正向脈沖后緊接著一個(gè)無關(guān)斷時(shí)間的反向脈沖，其波形，如圖4所示。正、反向脈沖持續(xù)時(shí)間通常在ms級(jí)，(如正向20ms，反向1ms)，這種波形通常也稱為方波交流電，與普通正弦波交流電波形相異，但頻率大致相同，約50Hz左右。這種波形正向脈沖持續(xù)時(shí)間長、幅度小，反向脈沖持續(xù)時(shí)間短、幅度大，其反向脈沖的不均勻電流密度分布補(bǔ)償作用較明顯，改善鍍層厚度分布的效果較明顯。其適用于對(duì)鍍層均勻性要求較高的電鍍場合(如印刷線路板鍍銅，可明顯縮小孔內(nèi)、外鍍層厚度比)。但因其脈沖無關(guān)斷時(shí)間，且頻率較低，改善鍍層結(jié)晶的效果尚不理想，因此不宜用于(尤其對(duì)鍍層結(jié)晶要求較高的)貴金屬電鍍。

    3.2.3 脈動(dòng)脈沖換向

    一組正向脈沖之后緊接著一組反向脈沖，即:正、反向脈沖均為群波而非單個(gè)波形，其波形，如圖2所示。

    這種波形為典型的周期換向脈沖波形，在功能性電鍍生產(chǎn)中應(yīng)用最廣泛。相對(duì)于有關(guān)斷時(shí)間的單個(gè)脈沖換向，其克服了正、反向脈沖的導(dǎo)通、關(guān)斷時(shí)間選擇與正、反向脈沖的持續(xù)時(shí)間選擇發(fā)生沖突的缺點(diǎn)。相對(duì)于無關(guān)斷時(shí)間的單個(gè)脈沖換向，其克服了脈沖無關(guān)斷時(shí)間、改善鍍層結(jié)晶不理想的缺點(diǎn)。所以，脈動(dòng)脈沖換向同時(shí)具有改善鍍層厚度分布和改善鍍層結(jié)晶狀況的雙重效果。

    3.2.4 多組脈沖換向

    多組脈沖換向簡稱多脈沖，其波形，如圖5所示。它是在脈動(dòng)脈沖換向的基礎(chǔ)上增加可編程序功能，在每一個(gè)程序或時(shí)段內(nèi)采用的脈沖參數(shù)可各不相同。而普通的脈動(dòng)脈沖換向，其各項(xiàng)參數(shù)調(diào)節(jié)好后，直到電鍍過程結(jié)束，便不再改變。

    多組脈沖換向的優(yōu)點(diǎn)如下:

    (1)各層間應(yīng)力相互抵消，鍍層脆性下降，抗疲勞強(qiáng)度增強(qiáng);

    (2)各層間多次重疊，則鍍層孔隙率降低，致密性、耐蝕性提高;

    (3)各層間組分不同，有可能產(chǎn)生奇異的效果。

    4·脈沖電鍍電源

    脈沖電鍍電源是產(chǎn)生脈沖電流的電源，它一般先由基礎(chǔ)直流電源產(chǎn)生低紋波直流電流，然后再通過功率器件斬波形成脈沖電流。斬波電路可采用可控硅電子開關(guān)電路和晶體管轉(zhuǎn)換開關(guān)電路等。

    4.1 脈沖電鍍電源的波形

    圖1為理想的方波脈沖電流波形，但由于受脈沖電鍍電源內(nèi)部電感、電容等器件及外加負(fù)載的影響，實(shí)際應(yīng)用中的脈沖波形不可能如圖1所示。實(shí)際脈沖電鍍中的電流波形近似于梯形，可簡單地用圖6中的波形來表示。

    在電鍍體系中，電極/溶液界面間的雙電層近似于一個(gè)平板電容器，板間具有很高的電容。當(dāng)向該電鍍體系施加脈沖電流時(shí)，必須首先給雙電層充電。雙電層充滿電(脈沖電流密度從零增至峰值)需要一定的時(shí)間tc，脈沖電流密度不可能從零垂直增至峰值，而是需要一定的“爬坡”�！芭榔隆彼�需要的時(shí)間可簡單地視作脈沖的上升時(shí)間(確切的脈沖上升時(shí)間定義:脈沖電流密度由峰值電流密度的10%上升到90%所需要的時(shí)間)，上升時(shí)間也稱作“上升沿”、“前沿”、“上沖”等。

    當(dāng)脈沖電流密度“爬坡”至峰值并持續(xù)一段時(shí)間tb后，開始進(jìn)入關(guān)斷期。進(jìn)入關(guān)斷期后，脈沖電鍍電源雖然停止向該電鍍體系供電，但雙電層放電(從滿電釋放至零)會(huì)使電流維持一段時(shí)間td。所以，此時(shí)脈沖電流密度不可能從峰值垂直下降至零，而是需要一定的“下坡”�！跋缕隆彼�需要的時(shí)間可簡單地視作脈沖的下降時(shí)間(確切的脈沖下降時(shí)間定義:脈沖電流密度由峰值電流密度的90%下降到10%所需要的時(shí)間)，下降時(shí)間也稱作“下降沿”、“后沿”、“下沖”等。

    正是由于脈沖前、后沿的客觀存在，使實(shí)際脈沖電鍍中的電流波形不可能是理想的方波，而是一種不規(guī)則的近似于梯形的波形。目前尚無法確知前、后沿對(duì)鍍層質(zhì)量的影響有多大，但可確知其存在會(huì)使脈沖電鍍瞬時(shí)高電位的有利作用得不到充分發(fā)揮。所以，脈沖電鍍中總是要求脈沖前、后沿盡可能小，一般要求前沿20~100μs，后沿30~100μs。其實(shí)，不應(yīng)只要求前、后沿大小，避免前、后沿大于(或等于)導(dǎo)通、關(guān)斷時(shí)間也很必要。否則，若前沿(遠(yuǎn))大于導(dǎo)通時(shí)間，后沿(遠(yuǎn))大于關(guān)斷時(shí)間，則鍍槽內(nèi)只能得到在平均電流附近變化的脈沖電流，即:脈沖電流實(shí)際變成了直流電流，其波形，如圖7所示。

    4.2 脈沖電鍍電源的頻率

    一般高頻脈沖定義為頻率大于5000Hz，低頻為頻率小于500Hz，中頻則在500~5000Hz之間。用于電鍍的脈沖電源多屬于中頻類型[2]。當(dāng)使用頻率較低的脈沖電源時(shí)，其改善鍍層質(zhì)量的效果會(huì)稍差。所以，低頻脈沖電源多用于陽極氧化或其他工藝，而較少用于電鍍，尤其是貴金屬電鍍。當(dāng)使用頻率較高的脈沖電鍍電源時(shí)，脈沖前、后沿極易對(duì)導(dǎo)通、關(guān)斷時(shí)間造成嚴(yán)重影響，從而影響脈沖電鍍瞬時(shí)高電位有利作用的充分發(fā)揮。例如:脈沖鍍金，頻率5000Hz(此時(shí)脈沖周期0.2ms)，占空比20%，則導(dǎo)通時(shí)間為40μs，此時(shí)，假設(shè)脈沖前沿為最小的20μs(實(shí)際可能更大)，則其比例至少占到了導(dǎo)通時(shí)間的50%;若頻率大于5000Hz，占空比小于20%(脈沖鍍金時(shí)占空比很多時(shí)候選10%)，則前沿占導(dǎo)通時(shí)間的比例會(huì)更大，甚至前沿會(huì)大于導(dǎo)通時(shí)間，如此，脈沖電鍍改善鍍層結(jié)晶的作用肯定會(huì)受到嚴(yán)重影響。實(shí)際脈沖電鍍貴金屬生產(chǎn)中，頻率多在1000Hz左右。

    當(dāng)使用頻率更高的脈沖電源(上萬或幾萬Hz)時(shí)，其輸出的電流多是如圖7所示的電流波形，實(shí)質(zhì)是一種直流電流，與能夠改善鍍層結(jié)晶的方波脈沖電流有本質(zhì)的區(qū)別。

    4.3 脈沖電鍍電源使用注意事項(xiàng)

    (1)脈沖電鍍電源與鍍槽間導(dǎo)體的連接

    脈沖電鍍電源與鍍槽間連線的電感阻滯了電流變化，導(dǎo)致通過鍍槽的脈沖電流上升時(shí)間延緩，引起脈沖波形畸變。采用短、粗、根數(shù)多的電纜線，且陰、陽極電纜線相絞而用，可盡量抵消電感效應(yīng)，減小脈沖波形失真度，提高鍍層質(zhì)量。

    連線一般要求不超過2m，這使得脈沖電鍍電源距離鍍槽較近，從而增加了電源受腐蝕的幾率，使設(shè)備可靠性降低(脈沖電源比普通電源更不耐腐蝕)。比較可行的做法是，將脈沖電源與鍍槽隔墻放置，或做有機(jī)玻璃罩將其罩住。脈沖電流產(chǎn)生的熱量比平均電流的大，但比峰值電流的小，相當(dāng)于均方根電流產(chǎn)生的熱量。均方根電流為峰值電流乘以平均電流開根號(hào)。脈沖電鍍電源與鍍槽間連線的截面積需根據(jù)通過的均方根電流確定。例如:某脈沖電鍍電源最大均方根電流為50A，則連線可選截面積為20mm2的銅電纜線(每mm2的銅線通過的電流值可取2.5A)。

    (2)脈沖電鍍電源規(guī)格型號(hào)的選擇

    一般脈沖電鍍電源在規(guī)格型號(hào)中標(biāo)明的是峰值電流，例如:SMD-500型脈沖電鍍電源，其最大峰值電流為500A。峰值電流尚難以作為選擇脈沖電鍍電源規(guī)格的依據(jù)。一般，先根據(jù)實(shí)際需要的電流確定脈沖電鍍電源的平均電流，再根據(jù)使用的占空比確定峰值電流。例如:實(shí)際需要的最大電流為10A，使用的最大占空比為20%，則選擇最大峰值電流為10A/20%=50A的脈沖電鍍電源即可。

    (3)脈沖電流的使用或選擇

    一般選擇脈沖平均電流與使用直流電流時(shí)一樣或稍大。例如:直流鍍時(shí)使用電流10A，則脈沖鍍時(shí)平均電流也選10A或稍大(此時(shí)不考慮占空比大小)。脈沖平均電流顯示在電源面板的電流表上。周期換向脈沖電流的選擇比單脈沖的復(fù)雜些。正向脈沖平均電流的選擇與單脈沖時(shí)一樣，即:與使用直流電流時(shí)一樣或稍大。但反向脈沖平均電流卻不能如此選，其在反向峰值電流是正向峰值電流1~2倍的情況下通過計(jì)算倒推得出(方法可參見相關(guān)廠家的產(chǎn)品說明書)。

    4.4 常見脈沖電鍍電源類型

    常見的脈沖電鍍電源主要有以下幾種類型:

    (1)單脈沖電鍍電源

    輸出導(dǎo)通時(shí)間和關(guān)斷時(shí)間可調(diào)的單向正方波，波形如圖1所示。一般為中頻可調(diào)，占空比為0%~100%可調(diào)。當(dāng)占空比為100%時(shí)，脈沖電流變成直流電流。

    (2)雙脈沖電鍍電源

    即周期換向脈沖電鍍電源，輸出波形如圖2所示。另外，還可輸出屬于雙向功能的單個(gè)脈沖換向、無關(guān)斷時(shí)間的單個(gè)脈沖換向、直流與脈沖換向及屬于單向功能的單脈沖和直流、直流疊加脈沖、間斷脈沖等波形。頻率和占空比調(diào)節(jié)范圍與單脈沖電鍍電源的大致相同。

    (3)多脈沖電鍍電源

    即多組換向脈沖電鍍電源，主要循環(huán)輸出多組脈寬、頻率、幅值、換向時(shí)間、持續(xù)時(shí)間等參數(shù)各不相同的直流、單向或周期換向脈沖電流，波形如圖5所示。

    (4)計(jì)算機(jī)控制多脈沖電鍍電源

    在多脈沖電鍍電源的基礎(chǔ)上增加計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制和過程監(jiān)控，可實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)畫面顯示、數(shù)據(jù)庫管理(數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、查詢、打印等)、系統(tǒng)自動(dòng)保護(hù)、聲光報(bào)警及信息提示等功能。

    5 結(jié)語

    隨著電鍍技術(shù)的不斷發(fā)展，脈沖電鍍的適用范圍進(jìn)一步擴(kuò)大，如脈沖納米電沉積、脈沖陽極氧化、脈沖電解回收、脈沖電化學(xué)拋光、脈沖電化學(xué)加工等，從而使這項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)呈現(xiàn)出更大的活力。

    參考文獻(xiàn):

    [1]侯進(jìn).淺談脈沖電鍍電源[J].電鍍與環(huán)保，2005，25(3):28-30.

    [2]向國樸.脈沖電鍍的理論與應(yīng)用[M].天津:天津科學(xué)技術(shù)出版社，1989:122-124.<