HPD-100實(shí)驗(yàn)型設(shè)備次大氣輝光放電處理機(jī)
產(chǎn)品詳情
次大氣壓下輝光放電的視覺(jué)特征呈現(xiàn)均勻的霧狀放電,放電的電流電學(xué)特征為單脈沖,放電溫度為室溫。次大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設(shè)備成本低、處理的時(shí)間短、可加入各種氣氛,氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。可應(yīng)用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學(xué)合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達(dá)10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。
規(guī)格:
1. 型號(hào):
HPD-100A(空氣型)
HPD-100B(混合氣體型)
HPD-100C(混合氣體型)
2. 電源:?jiǎn)蜗郃C220V(±10%)
3. 功率:500VA;
4. 電極尺寸:100mm×100mm;
5. 設(shè)備尺寸:620(W)×750(H)×450(D)mm
6. 設(shè)備重量:100kg
7. 腔體壓力:10~1000Pa
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